四氯化硅杂质分析分析系统

四氯化硅为有机化合物，主要用于化学工业及**生产。高纯SiCl4是生产石英通信光纤的主要原料，也是国内外多年来生产电子级多晶硅的基本原料，但对四氯化硅的纯度要求较高。

  生产工艺决定了产品中的杂质成分复杂，因此需要一套行之有效的分析方法分析四氯化硅产品的纯度。对四氯化硅中的金属杂质、硅含量及其中有机杂质成分进行分析，采用傅立叶红外光谱仪定性分析了四氯化硅中有机杂质官能团，设计的一套密封取样装置有效避免了四氯化硅的水解等，提供了一种简单有效的四氯化硅分析方法。

系统介绍

  主机采用德国布鲁克款傅里叶红外光谱仪：德国布鲁克光谱仪器公司的TENSOR II型红外光谱仪被国内外的生产四氯化硅行业当作是一款标准的设备。它是分区密封的光学台，对四氯化钛水解气体的危害有非常好的防护作用。在仪器构造上由于采用无动态偏差的干涉仪、数字化检测器、网络化接口和自动校验等技术，使得仪器工作更稳定、定量精度更高。TENSOR II 是同类台式研究级红外光谱仪中采用先进的二极管激光器的谱仪。此外，TENSOR II 的红外光源增设了一个全新的电子稳压处理功能。这些创新极大延长了红外光谱仪上两个主要易损部件的使用寿命，同时降低了您的维护成本和耗时。

仪器特点：

仪器具有灵敏度高，所有反射镜均为镀金镜子，耐环境性能优； 仪器稳定，抗震性能优，采用90°角镜，入射光与反射光永远平行； 智能化程度高，能对仪器的各部分进行检测，同时给出测试报告；仪器内部有校验系统，对波数的精度、准确度，透光率的精度、准确度以及信噪比进行测量。

系统除红外光谱仪器外，为保证样品*隔离空气的情况下，采取在线或离线装取样品，并在经过红外光谱仪器分析测量以后，再安全地将样品排除出去。特制的气体取样装置，带流量控制的气体池，四氯化硅分析测试系统等。

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相关技术问题：4000294299